一、光刻膠由三種主要成分組成，其中樹脂成本占比最高
根據(jù)觀研報(bào)告網(wǎng)發(fā)布的《中國(guó)光刻膠行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)分析與未來(lái)前景預(yù)測(cè)報(bào)告（2024-2031年）》顯示，光刻膠，又稱光致抗蝕劑，是一種在特定光源（如紫外光、電子束、離子束、X射線等）照射下，其溶解度會(huì)發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成，是一種對(duì)光敏感的混合液體。
原材料的質(zhì)量和性能直接影響到光刻膠的最終品質(zhì)。其中，樹脂是光刻膠的主要成膜物質(zhì)，對(duì)光刻膠的性能有重要影響，占成本約50%。光引發(fā)劑又稱光敏劑或光困化劑，對(duì)于光刻膠的感光度和分辨率有著重要的影響，成本占比15%。溶劑為光刻膠各組成部分提供溶液環(huán)境，使各部分溶解在一起，同時(shí)也是后續(xù)光刻化學(xué)反應(yīng)的介質(zhì)，占成本約5%。添加劑用來(lái)控制和改變光刻膠材料的特定化學(xué)性質(zhì)或光響應(yīng)特性，占成本約30%。
光刻膠原材料簡(jiǎn)介
| 原材料 | 簡(jiǎn)介 |
| 樹脂 | 光刻膠的主要組成部分，它決定了光刻膠的粘附性、化學(xué)抗蝕性、膠膜厚度等基本性能。樹脂在顯影液中的溶解度由光引發(fā)劑在光化學(xué)反應(yīng)中的產(chǎn)物改變，從而幫助完成光刻。 |
| 光引發(fā)劑 | 又稱光敏劑或光困化劑，屬于能從光中吸收一定波長(zhǎng)的能量，經(jīng)過(guò)光化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生具有引發(fā)聚合能力的活性中間體的分子。光引發(fā)劑對(duì)于光刻膠的感光度和分辨率有著重要的影響，光增感劑、光致產(chǎn)酸劑都是幫助光引發(fā)劑發(fā)揮作用的物質(zhì)。 |
| 溶劑 | 為光刻膠各組成部分提供溶液環(huán)境，使各部分溶解在一起，同時(shí)也是后續(xù)光刻化學(xué)反應(yīng)的介質(zhì)。 |
| 添加劑 | 控制光刻膠材料特殊方面的化學(xué)性質(zhì)，用來(lái)控制和改變光刻膠材料的特定化學(xué)性質(zhì)或光響應(yīng)特性。 |
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二、光刻膠下游產(chǎn)業(yè)涵蓋多個(gè)高科技領(lǐng)域，國(guó)內(nèi)市場(chǎng)不斷擴(kuò)容
光刻膠的下游產(chǎn)業(yè)涵蓋了多個(gè)高科技領(lǐng)域。隨著半導(dǎo)體、印制電路板、顯示面板產(chǎn)業(yè)鏈向中國(guó)轉(zhuǎn)移，近年來(lái)，我國(guó)光刻膠市場(chǎng)顯著擴(kuò)容。
光刻膠下游應(yīng)用情況
| 下游領(lǐng)域 | 光刻膠應(yīng)用情況 |
| PCB（印制電路板） | 光刻膠在PCB制造中用于形成精細(xì)的電路圖案，是PCB生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵材料。 |
| 顯示面板 | 顯示面板光刻膠中的彩色光刻膠和黑色光刻膠用于制造顯示面板中的彩色濾光片；觸摸屏光刻膠用于制作觸摸電極；TFT-LCD 光刻膠用于加工液晶面板前段 Array 制程中的微細(xì)圖形電極，主要用于電視、平面顯示器和投影機(jī)上。 |
| 半導(dǎo)體 | 光刻膠在半導(dǎo)體制造過(guò)程中起著至關(guān)重要的作用，用于形成微細(xì)圖形。根據(jù)曝光光源波長(zhǎng)的不同，半導(dǎo)體光刻膠可分為g線光刻膠、i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠和EUV光刻膠等。其中 ArF 光刻膠已是半導(dǎo)體光刻膠中最大細(xì)分產(chǎn)品，占比超50%。 |
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數(shù)據(jù)顯示，2019-2023年我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模由81.4億元增長(zhǎng)至109.2億元，年復(fù)合增長(zhǎng)率為7.6%；預(yù)計(jì)2024年我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模達(dá)114.4億元，較上年同比增長(zhǎng)4.8%。
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三、政策支持力度加大，我國(guó)光刻膠企業(yè)正逐步突破行業(yè)壁壘
光刻膠作為光刻工藝的核心，配方研發(fā)及生產(chǎn)工藝要求極高；光刻機(jī)設(shè)備購(gòu)置及維護(hù)成本高，對(duì)光刻膠公司設(shè)備投入要求較高；下游晶圓廠與光刻膠供應(yīng)廠商的粘性較強(qiáng)，光刻膠產(chǎn)品替代驗(yàn)證的時(shí)間成本極高。
光刻膠行業(yè)壁壘
| 壁壘 | 簡(jiǎn)介 |
| 技術(shù) | 配方是光刻膠的核心技術(shù)。各廠商的配方難以通過(guò)分析市場(chǎng)上的成品來(lái)獲得。為實(shí)現(xiàn)與已有供應(yīng)商產(chǎn)品的性能和參數(shù)的完全匹配，光刻膠廠商首先需要對(duì)成百上千個(gè)樹脂、光酸和添加劑進(jìn)行排列組合，其次還要不斷對(duì)各成分的比例進(jìn)行調(diào)整，以實(shí)現(xiàn)和現(xiàn)有產(chǎn)品關(guān)鍵參數(shù)的完全匹配，這需要足夠的研發(fā)資源、經(jīng)驗(yàn)積累。 |
| 設(shè)備 | 光刻膠需要通過(guò)相應(yīng)的光刻機(jī)進(jìn)行測(cè)試和調(diào)整，目前國(guó)際光刻機(jī)龍頭廠商所在地區(qū)對(duì)我國(guó)實(shí)施技術(shù)封鎖，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)品較少，且技術(shù)水準(zhǔn)與海外龍頭有較大差距，可供光刻膠廠商測(cè)試的資源較少。此外光刻機(jī)的購(gòu)置和測(cè)試成本高昂，資金投入要求極高 |
| 客戶 | 由于光刻膠的品質(zhì)會(huì)直接影響芯片性能、良率等，試錯(cuò)成本高，客戶驗(yàn)證需要經(jīng)過(guò)PRS（基礎(chǔ)工藝考核）、STR（小批量試產(chǎn)）、MSTR（中批量試產(chǎn)）、RELEASE（量產(chǎn)）四個(gè)階段，驗(yàn)證周期在兩年以上；此外光刻膠廠商的原材料供應(yīng)商也必須得到下游晶圓廠的認(rèn)可，因此下游晶圓廠與光刻膠供應(yīng)廠商的粘性較強(qiáng)，光刻膠產(chǎn)品替代驗(yàn)證的時(shí)間成本極高。 |
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光刻膠行業(yè)面臨著技術(shù)、設(shè)備、高客戶需求的挑戰(zhàn)，行業(yè)壁壘較高，市場(chǎng)主要集中在日本和歐美企業(yè)手中。隨著國(guó)際環(huán)境變化，光刻膠供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)增加，國(guó)產(chǎn)替代需求增多。在此背景下，國(guó)家加大對(duì)光刻膠行業(yè)的扶持力度，國(guó)內(nèi)光刻膠企業(yè)迎來(lái)利好，逐步突破行業(yè)壁壘，提高自給率。
我國(guó)光刻膠行業(yè)相關(guān)政策
| 時(shí)間 | 政策 | 主要內(nèi)容 |
| 2024.03 | 《關(guān)于做好2024年享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企業(yè)或項(xiàng)目、軟件企業(yè)清單制定工作有關(guān)要求的通知》 | 光刻膠生產(chǎn)企業(yè)入圍“清單”，可享受稅收優(yōu)惠政策。 |
| 2023.12 | 《產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導(dǎo)目錄(2024年本)》 | 將“信息產(chǎn)業(yè)-電子元器件生產(chǎn)專用材料:濕化學(xué)品、電子特氣、光刻膠等工藝與輔助材料等”列為鼓勵(lì)類。 |
| 2023.12 | 《工業(yè)戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)分類目錄(2023) | 將“專用化學(xué)品及材料制造-電子專用材料制造-光刻膠及配套試劑(集成電路)”列為戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)。 |
| 2023.12 | 《重點(diǎn)新材料首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄 (2024年版)》 | 將“集成電路用光刻膠及其關(guān)鍵原材料和配套試劑、平板顯示用光刻膠及其關(guān)鍵原材料和配套試劑”列為關(guān)鍵戰(zhàn)略材料。 |
| 2023.03 | 《國(guó)務(wù)院關(guān)于印發(fā)新時(shí)期促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展若干政策的通知》 | 包括生產(chǎn)光刻膠在內(nèi)的集成電路產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵原材料、零配件企業(yè)被納入享受稅收優(yōu)惠政策的清單。 |
| 2022.10 | 《鼓勵(lì)外商投資產(chǎn)業(yè)目錄(2022年版)》 | 將“計(jì)算機(jī)、通信和其他電子設(shè)備制造業(yè)-高純電子化學(xué)品、高性能光刻膠開發(fā)、生產(chǎn)”列為全國(guó)鼓勵(lì)外商投資產(chǎn)業(yè)目錄。 |
| 2022.08 | 《實(shí)施方案原材料工業(yè)“三品”》 | 將“新材料產(chǎn)品-高溫合金、航空輕合金材料、超高純稀土金屬及化合物、高性能特種鋼、可降解生物材料、特種涂層、光刻膠、靶材、拋光液等”列為原材料品種培優(yōu)工程。 |
| 2021.12 | 《重點(diǎn)新材料首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄(2021年版)》 | 將集成電路用光刻膠及其關(guān)鍵原材料和配套試劑等列為重點(diǎn)新材料。 |
| 2021.12 | 《“十四五”原材料工業(yè)發(fā)展規(guī)劃》 | 提出要促進(jìn)產(chǎn)業(yè)供給高端化，突破關(guān)鍵材料，圍繞大飛機(jī)、航空發(fā)動(dòng)機(jī)、集成電路、信息通信、生物產(chǎn)業(yè)和能源產(chǎn)業(yè)等重點(diǎn)應(yīng)用領(lǐng)域，攻克光刻膠在內(nèi)的一批關(guān)鍵材料和重點(diǎn)品種。 |
| 2021.05 | 《關(guān)于做好享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企業(yè)或項(xiàng)目、軟件企業(yè)清單制定工作有關(guān)要求的通知》 | 光刻膠生產(chǎn)企業(yè)入圍“清單”，可享受稅收優(yōu)惠政策 |
| 2020.12 | 《關(guān)于促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展企業(yè)所得稅政策的公告》 | 國(guó)家鼓勵(lì)的集成電路線寬小于28納米(含)，且經(jīng)營(yíng)期在15年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項(xiàng)目，第一年至第十年免征企業(yè)所得稅;國(guó)家鼓勵(lì)的集成電路線寬小于65納米(含)，且經(jīng)營(yíng)期在15年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項(xiàng)目，第一年至第五年免征企業(yè)所得稅，第六年至第十年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅;國(guó)家鼓勵(lì)的集成電路線寬小于150納米(含)，且經(jīng)營(yíng)期在10年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項(xiàng)目，第一年至第二年免征企業(yè)所得稅，第三年至第五年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅 |
| 2020.07 | 《新時(shí)期促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的若干政策》 | 國(guó)家鼓勵(lì)的集成電路設(shè)計(jì)、裝備、材料、封裝、測(cè)試企業(yè)和軟件企業(yè)，自獲利年度起，第一年至第二年免征企業(yè)所得稅，第三年至第五年按照25%的法定稅率或減半征收企業(yè)所得稅。 |
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目前，生產(chǎn)技術(shù)難度較低的PCB光刻膠國(guó)產(chǎn)化程度較高，面板光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠國(guó)產(chǎn)化率提升空間較大。
光刻膠國(guó)產(chǎn)化情況
|
分類標(biāo)準(zhǔn) |
主要品種 |
國(guó)產(chǎn)化率 |
國(guó)內(nèi)公司 |
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PCB光刻膠 |
干膜光刻膠 |
幾乎全進(jìn)口 |
- |
|
濕膜及阻焊油墨 |
50% |
容大感光、東方材料、飛凱科技、北京力拓達(dá)等 |
|
|
LCD光刻膠 |
彩色光刻膠 |
永太科技、雅克科技、晶瑞電材等 |
|
|
黑色光刻膠 |
5% |
上海新陽(yáng)、江蘇博硯等 |
|
|
TFT-LCD正性光刻膠 |
大部分進(jìn)口 |
蘇州瑞紅、北京科華、容大感光等 |
|
|
半導(dǎo)體光刻膠 |
g線 |
10% |
蘇州瑞紅、北京科華、容大感光等 |
|
i線 |
10% |
||
|
KrF |
1% |
上海新陽(yáng)、南大光電、蘇州瑞紅、北京科華等 |
|
|
ArF |
1% |
||
|
EUV |
研發(fā)階段 |
北京科華(02專項(xiàng)) |
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